电筒反光杯开发-佛山锦城镀膜公司-江门电筒反光杯

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物理l气相沉积（真空镀膜）基本方法 ：

1、从沉积粒子能量（中性原子）来看，电筒反光杯厂家价格，真空蒸镀为0.1-1eV，电动平板车电筒反光杯，溅射为1-10eV，离子镀为0.1-1eV（此外还有高能中性原子）。

2、从沉积速率来看，真空蒸镀为0.1-70μm/min，溅射为0.01-0.05μm/min(磁控溅射接近于真空蒸镀)，离子镀为0.1-50μm/min。

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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：

金属过渡层：过渡层能有效的减小膜-基或不同镀层间因材料热膨胀系数等物理性能不同而形成的应力，提高结合力，但是金属过渡层太厚容易引起基体软化，结合力反而会变差。

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靶功率；磁控溅射本身粒子初始动能比较小，离化率低，电源功率越大，溅射出的粒子的初始能量越大，靶材溅射量也越大，沉积速率越快，膜层容易上厚度和硬度，同时工件温升也大，过高的功率会使沉积速率太快，江门电筒反光杯，粒子来不及表面迁移和扩散，易形成阴影效应，膜层会比较疏松，应力较大。

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