供应天津UV光解光氧催化废气除臭净化器等离子除臭设备

【行业基本情况】：
半导体产品可大致划分为三大类：分立器件、集成电路与光电组件，其中集成电路就占了半导体近九成的比重，可谓半导体产业的**所在。2000年以来，中国集成电路产业处于高速成长期。预计2008年-2010年这3年间，中国集成电路产业整体销售收入的年均复合增长率将达到23.6%。到2010年，中国集成电路产业销售收入将达到约2500亿元。预计2010年-2015年，我国将以年均近20%速度向前发展，产业规模达到约6000亿元，届时中国将成为世界重要电路制造基地之一。2007年，我国半导体企业总数达700家左右，其中IC设计业500多家，IC制造业30多家，封装测试业100多家。IC制造业企业已相对集中，主要分布在上海、北京、江苏、浙江等省市，长江三角洲地区成为中国集成电路重镇。
半导体分立器件厂家我国现有约200家。2007年分立器件产品的产量为2487.21亿元，比2006年增长11.8%；销售额835.1亿元，比2006年增长15.9%。到2010年我国半导体分立器件产业销售额将达到1300亿元。
根据2007年污普数据，广州市现有半导体企业16家，集成电路制造企业17家。据了解，目前广州市半导体企业大都为中小型组装部件企业，因此，本通告未将其纳入**监管范围。
【污染物排放】：
半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。挥发性**废气主要来源于光刻、显影、刻蚀及扩散等工序，在这些工序中要用**溶液（如异丙醇）对晶片表面进行清洗，其挥发产生的废气是**废气的来源之一；同时，在光刻、刻蚀等过程中使用的光阻剂（光刻胶）中含有易挥发的**溶剂，如醋酸丁酯等，在晶片处理过程中也要挥发到大气中，是**废气产生的又一来源。与半导体制造工艺相比，半导体封装工艺产生的**废气较为简单，主要为晶粒粘贴、封胶后烘烤过程产生的烘烤废气。
【控制要求】：
半导体制造工艺中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量**物成分。在工艺过程中，这些**溶剂大部分通过挥发成为废气排放。目前，**废气排放处理措施采用大风量低浓度，其处理一般采用吸附浓缩技术、等离子光解技术、或UV光解技术等等。
【半导体制造行业废气处理工艺】：
半导体制造行业废气预处理设备（根据具体项目及废气源实际工况，可能涉及到粉尘去除、水气分离、高温降温处理、油膏油脂去除、酸碱水雾去除等相应的预处理措施）等离子UV光解除臭废气净化器高排。

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我们生产的废气净化器种类有： 低温等离子分解**废气净化器、等离子UV光解除臭废气净化器、UV光解光触媒催化除臭废气净化器、高能离子UV光解光触媒催化除臭废气净化器等等；这些产品被广泛应用于治理VOC**废气、恶臭废气、腐臭废气、喷漆废气、喷涂废气、印染废气、塑胶废气、皮革废气、**废气、纺织定型废气、包装印刷废气、制药废气、油墨废气、油雾废气、工业油烟废气、沥青废气、垃圾污水臭气等等等，涉及各个行业、企业、工厂等各类型废气治理净化。
我们生产的油烟净化器有UV光解除味等离子分解静电吸附油烟净化器、低空排放等离子分解静电吸附复合式油烟净化器、高空排放静电吸附油烟净化器、油雾分离器等各种净化设备，广泛适用于社区楼盘、酒店、宾馆、西餐厅、中餐厅、食堂、烧烤场、家庭厨房、食品加工厂、面包蛋糕加工店等餐饮行业。