大气射频宽幅等离子处理机，常压等离子清洗机

1：大气压等离子清洗设备，除了能够在大气压中再现真空等离子清洗机品质之外，还能够生成比真空等离子清洗机多的高能量自由基，可快速进行表面处理。可在大气压中实现连续制程。2： 大气射频宽幅等离子处理机对各种材料（塑料、橡胶、陶瓷、玻璃、金属等**和无机材料）表面进行微观清洗、表面活化、表面改性、静电等。

大气射频辉光等离子表面处理设备的应用领域

FPD 方面

LCD, L, OLED等各种基板玻璃表面清洗和连接前工艺的设备，不需要真空排气。采用均匀大气压等离子，以大气压等离子的问题点Stremer或者Arc的产生为准则阻断，基板上无损坏的表面清洗工艺。另外多元电和原有大气压等离子技术相比，扩张性比较容易，所以从首代较小的基板开始到*十代3000mm扩大的大型基板都可以使用。

TSP 方面

触摸屏的主要工艺的清洗，提高OCA/OCR，压层，ACF，AR/AF涂层等工艺上的粘合力/涂层力，为去除气泡/异物，通过多种大气压等离子形态的运用，可以将各种玻璃，薄膜均匀的大气压等离子放电使表面无损进行处理。

半导体方面

半导体成型工艺，刻模工艺&焊接工艺，焊球连接&安装工艺的广泛使用可以提高芯片和环氧间的粘结力，和引线框架的安装和粘接力，板材和焊球之间的粘结力。防止半导体特性上的电气损坏或者容易发生的静电问题 ，可以采用多元系统技术。另外，因为可以根据硅片的大小制造大气压等离子，无论多小的等离子都可以适用。