如皋光学镀膜机

如何处理真空镀膜的灰尘呢
1、设备使用的源材料要符合必要的纯度要求。
2、设备样品取出后要注意放置环境的清洁问题。
3、真空镀膜一段时间后，真空室内壁必须要清洁处理。
4、真空镀膜清洗衬底材料，必须要做到严格合乎工艺要求。
5、真空镀膜适当的增加环境的湿度，有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物。
6、工作人员在操作时需要戴手套、脚套等，要有的服装。
由于灰尘对镀膜效果会产生比较大的影响，因此为了避免在真空镀膜设备中留下灰尘，应该在使用中注意以上几点来尽量避免，除此也要注意经常清洗，避免灰尘越积越多。

真空镀膜机为什么会越来越慢这种情况有两种可能
1、设备内部由于长时间镀膜导致有些脏东西在加热时放气，所以这种情况需要维护，即把内部屏蔽板拆下喷砂或脱膜，彻底清理。
2、由微小的渗漏，没有发现，尤其是各个传动部位密封，这种情况就是比较难查，如果没有检漏仪，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替换予以排除。也有人用针头酒精观察真空计的变化检查，但一般漏的不大时不好判断，至于你说的真空1.9的那个其实也并不高，还有就是漏率是按照你的设备体积以及单位时间的真空下降程度来算的不是按照真空值计算的，比如你的真空泵抽速好，抽气能力强就有可能克服微漏而使真空显示较高的数值。

薄膜均匀性概念
1、厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
2、化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
3、晶格有序度的均匀性： 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题。

真空镀膜设备应用十分广泛，如今在我们的生活中到处可见，是**的一项技术。但是真空镀膜设备在使用一段时间后，表面就会留下灰尘影响真空镀膜的整体效果。

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