光电直读光谱仪对比 直读光谱仪ccd 7000

正确进行样品分析。    
认真制备试样  样品切割和磨样处理后，激发面能密封住激发孔，样品表面清洁，无裂纹、砂眼、气孔等缺陷，样品和激发板不能漏气。   
激发样品 样品制备好后在激发台激发3次，异常点，留三组数据取平均值。
 做好直读光谱仪的维护保养。    
要按时清洁仪器可见光透镜和紫外光透镜，定期检查更换排气瓶的水量，定期清洁空气滤芯、更换滤芯。    
定期清洁火花台，样品激发的过程产生的金属蒸气一部分附在火花台上，久而久之大量粉末沉积，降低两电极之间的绝缘性能，影响激发效果。

仪器的漂移校正需要进行标准化，控样主要是消除样品与标样之间因组织结构、成分差异等而引起的分析结果偏差。控样要求与分析样品结构类似、成分接近、生产工艺尽可能相同并经化学法或其他可靠的分析方法定值。
        控样校准是一种行之有效的方法，国外一般称之为类型标准化。要用控样校准，前提是工作曲线正常。一般应在完全标准化后进行。控样应与待分析样品的冶炼方式、物理结构、化学成分含量相近，这是应用控样必须遵守的。 
       可以去购买相接近的标样做为控样。但我觉得如果条件允许，还是自己制备，这样不仅节省成本，而且与自己的分析条件较符合。 
       制作控样还是比较费事的，首先要准备好浇注模具和同种牌号、熔炼良好的液态合金，尽量在短时间内浇注完成。浇注好的样块先经过肉眼观察，将外观不好的丢弃。再用光谱仪进行均匀性和含量检查（全部）。根据浇注数量和时间顺序从中挑选，选择几块用金相法检测均匀性及铸造质量。 
       从挑选好的的中控样，挑选几块，用化学法进行化学成分标定（推荐到有的单位做）。给控样打好标识，就可以投入使用了。 
        曲线漂移是用两点标准化来校正的,控样是和你们实际生产中产品的工作环境、条件非常接近的样品，这样可以使你分析较加准确，它是自己做的，但是需要化学分析严格准确地定值。

双光室技术
双光室技术将光谱仪拆分成两个光学系统，一个大光室，用来分析不需要氩气保护的可见光波段；一个小光室，用于分析需要氩气保护的紫外光波段。氩气用量很少，而且很快可以建立高纯氩气环境，另外氩气通过光室之后还可以循环到激发环节进行再利用，这样就解决了氩气浪费的问题。
此外，分成双光室之后，可以单对分析紫外的光学系统进行优化，提高光栅刻线数，进而提高分辨率，这样做对C、P、S等难分析的非金属元素的分析带来非常大的好处。当然，双光室技术也存在缺点，对于厂家而言，两套光学系统会导致成本升高，直读光谱仪价格也会上升。

光电光谱分析选用的分析线，必需符合下列要求。
 直读光谱分析时，一般都采用内标法。因内标法进行分析时常采用多条分析线和一条内标线组成，常用试料中的基体元素为内标元素。组成的线对要求均称，就是当激发光源有波动时，两条线对的谱线强度虽有变化，但强度比或相对强度能保持不变。
如R表示强度比即          R=I1/I0
I1为分析线的强度，Io为内标线强度，表明I1和Io同时变，而R则不受影响。R与含量C之间有线性关系。
 在光电直读光谱分析时，有很多分析通道，要安装许多内标通道有困难，因此采用一个内标线。但有人认为再要提高光电光谱分析的准确度还得采用不同的内标线，这还有待于光电转换元件的小型化来解决。
 光电法时，有时还用内标线来控制曝光量，称为自动曝光，也就是样品在曝光时，分析线和内标分别向各自积分电容充电，当内标线的积分电容器充电达到某一预定的电压时，自动截止曝光。此时分析线的积分电容器充电达到的电压即代表分析线的强度I，并且亦即代表分析线的强度比R(因为R=I1/Io，而此时Io保持常数)这个强度I或强度比R就由测光读数所表示。
 现在一般采用计时曝光法较为普遍。

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