蒸发源有三种类型。①电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质(图1[蒸发镀膜设备示意图])电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料;②高频感应加热源:用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质;③电子束加热源:适用于蒸发温度较高(不**2000[618-1])的材料,即用电子束轰击材料使其蒸发。 蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比,具有较高的沉积速率,可镀制单质和不易热分解的化合物膜。为沉积高纯单晶膜层,可采用分子束外延方法。生长掺杂的GaAlAs单晶层的分子束外延装置如图2[ 分子束外延装置示意图]。喷射炉中装有分子束源,在**高真空下当它被加热到一定温度时,炉中元素以束状分子流射向基片。基片被加热到一定温度,沉积在基片上的分子可以徙动,按基片晶格次序生长结晶用分子束外延法可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜,薄膜较慢生长速度可控制在1单层/秒。通过控制挡板,可**地做出所需成分和结构的单晶薄膜。分子束外延法广泛用于制造各种光集成器件和各种**晶格结构薄膜。真空蒸镀基础知识 真空蒸镀法是在高真空下为金属加热,使其熔融、蒸发,冷却后在样品表面形成金属薄膜的方法。 加热金属的方法:有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。 在对树脂实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,有**对蒸镀时间进行调整。此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。 真空蒸镀流程: 1、 脱脂处理 用酒精进行清洗 2、 表面处理(必要时) 电晕(corona)放电处理,紫外线照射处理等。 3、 底面涂布/硬化处理(必要时) 为了得到精美的蒸镀膜,有时**进行底面涂布处理。进行底面涂布处理可以得到以下的效果: (1)、改善树脂与蒸镀膜之间的密接性 (2)、将成型品表面的微小凹凸部分填平,以获得如镜面一样的表面 无论是为了得到反射镜作用而实施真空蒸镀,还是对密接性较低的夺钢进行真空蒸镀时,都**进行底面涂布处理。底面涂布工艺基本与涂布工艺相似。如一般的涂料一样,可以使用喷枪进行喷涂。 4、 真空蒸镀工艺 蒸镀金属为铝、金等。 5、 表面涂布/硬化处理(必要时) 由真空蒸镀所产生的金属薄膜相当的薄,为了利用外界的化学、物理等性能,以达到保护蒸镀膜的目的,有时需要实施表面涂布处理(或过量涂布)。 表面涂布就是使用人们所说透明的涂料,与底面涂布一样,采用与涂布相同的工艺进行涂布、固化。宝来利真空机电/真空镀膜机/镇江真空镀膜的工艺流程由丹阳市宝来利真空机电有限公司()提供。
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